本文为“透视日本半导体产业系列”之三
EUV光刻机背后的无名英雄
最近几年，manbetx3.0 上下对荷兰ASML的EUV光刻机倍加关注。但是很多人不知道是，即使有了荷兰的EUV光刻机，没有日本相关公司提供的材料，EUV光刻机是没办法开动的。EUV光刻机工作中最重要的材料有两个，一个是EUV光刻胶，一个是EUV光罩。这两个产品，日本企业有极强的存在感。EUV光刻胶的市场份额由东京应化工业、JSR和信越化学三家日本公司100%占有。EUV光罩是高纯度石英基板上面交互堆积大约80层左右的钼（大约3纳米一层）和硅（大约4纳米一层）的薄层构成的。EUV光罩基板（photo mask blank）是由高纯度的，基本没有膨胀、高度洁净的石英制造的。日本AGC公司的研发人员做了一个比喻，说明要求的洁净程度之高。类似一个150米见方的棒球场，其中不能有半个花粉的杂质。
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